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硫酸钡高剪切研磨均质机

简要描述:

GMD2000系列 硫酸钡高剪切研磨均质机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户

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硫酸钡高剪切研磨均质机

   硫酸钡高剪切研磨均质机,硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,硫酸钡溶液研磨均质机研磨均质机是将胶体磨和均质机一体化的设备,效果远远好于单台胶体磨处理的效果,研磨均质机是一台目前型的研磨分散设备

   硫酸钡,适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末,密度4.25-4.5,分解温度>1600℃。溶于热浓硫酸,几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。

   对于硫酸钡溶液的生产,目前许多厂家采用国产胶体磨生产,由于国产胶体磨本身转速较低为2930转,生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μm左右,而且生产效果很低,需要研磨5-6小时。而使用SGN研磨均质机进行处理,研磨两遍,粒径可以细化到5μm,效果好,效率高。
 
                             

  GMD2000系列 硫酸钡高剪切研磨均质机SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

GMD2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

GMD2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

GMD2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

GMD2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

GMD2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

GMD2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125


   硫酸钡研磨均质机的特点:

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 硫酸钡高剪切研磨均质机信息来源于www.sgnprocess。。com

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