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GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨

简要描述:

GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨,采用了二级处理结构,*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了国际先进水平。

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GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨

 GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨使用皮带轮按照1:3的比例变速,转速可达9000rpm,通过变频调节后转速zui高可达14000rpm,是普通国产胶体磨转速的3-4倍,立式分体式结构,运行平稳,符合卫生级标准。

GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨采用了二级处理结构,*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了国际先进水平。保证粉底液在达到研磨细度的基础上,达到颗粒粒径分布范围小,乳液稳定性高的效果。

   

原理:

    粉底液胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。

   

粉底液胶体磨的结构:

    粉底液胶体磨是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

 

的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨2、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

   

 粉底液胶体磨  GMD2000系列设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

 

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

 

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

 

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

 

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

 

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

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