分体式高剪切陶瓷胶体磨,分体式氧化锆陶瓷胶体磨,分体式用来处理一些电池浆料,电池隔膜,电子浆料,碳纤维电容浆料zui高转速可以达到14000RPM。GM2000系列分体式胶体磨是中德合作研发项目,磨头配合精密度高,相对于国产胶体磨此款胶体磨比普通的胶体磨的运转速度达到4-5倍以上,定转子配合间隙在0.2-0.3mm之间,分散乳化均质研磨效果非常好。 的磨头有氧化锆陶瓷组成,特别适合一次研磨后不带电的一些材料,如电子,电池,镀膜等等行业 是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产 生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和 粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。 的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 高剪切主要用途: 高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的水平。 思峻高剪切优势: GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突 起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不 同行业的多种要求。 三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 以下特点 - 结合优良的研磨效果的高吞吐量
- 定制不同的研磨刀头,实现多种研磨剪切速率
- 为减少颗粒大小的控制,可无限调整定子/转子之间的间隙设置
- SKN胶体磨GM与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。
- 适合于粘度高达50,000 mPas的各种粘度范围的物料
- 能在高达16 bar的压力下操作
- 容易扩大规模生产,从实验室机器MK开发到生产机器MK
- 所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢
- 具有耐磨材料的高性能机械密封密封
- 高质量的表面处理,便于清洗
- 可根据要求提供其他材料和表面处理
- 机器可自动排水,具有GSP和SSP功能
- 噪音低
- 根据符合EHEDG(欧洲卫生工程设计集团)准则制造
- 符合3A卫生和认证
- 根据需要提供制药
- 根据提供的ATEX 95指导方针执行防爆
设备等级:化工级、卫生S级、卫生SS级、无菌级 电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 电源选择:380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 电机选配件:PTG热保护、降噪型 胶体磨材质:SUS304、SUS316L、SUS316Ti 胶体磨选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车 胶体磨表面处理:抛光、耐磨处理 进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器 胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 | 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | | GM 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | GM 2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | GM2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 | GM2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | GM2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | GM2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。 2处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。 3如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。 4本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。 5本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。 |