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沉淀活性二氧化硅研磨分散机

简要描述:

GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

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沉淀活性二氧化硅研磨分散机

产品关键词概述:沉淀活性二氧化硅研磨分散机,疏水活性白炭黑研磨分散机,高速研磨分散机,高剪切研磨分散,研磨均质一体机,分体式研磨分散机

沉淀(活性)二氧化硅=疏水(活性)白炭黑

产品特性:

   疏水白碳黑是一种多孔性无定型二氧化硅,呈白色粉末状,其初生粒径为纳米颗粒,zui细之产品如SH-107的zui终粒径2~3um,它和橡胶、塑料、涂料混和后,能使产品具有各种良好的物理性能,它作为天然橡胶及人造橡胶浅色制品的良好填充剂,一方面减少橡胶的用量,降低成本,另一方面能提高橡胶制品的硬度,耐磨性,减少变形,增加耐油性;用于乳胶塑料皮革,轻质材料制品中,则易于脱膜和成型,减轻制品的重量;用于电线电缆中,能提高其绝缘性能;用于油漆油墨中,则是良好的增稠剂;用于涂料则具有耐高温性能,因而本品被广泛用于橡胶、塑料、制革、油漆、体育文化用品等行业。

(价格电议:葛   公司有样机可供客户实验!)

应用领域:

   疏水白炭黑具有极高的表面活性,在某些橡胶制品中具有透明、半透明性质;特别适宜做浅色、艳色、透明、半透明橡胶制品。此外,可作为乳胶的隔离剂、油漆油墨的防沉剂、增稠剂、触变剂,各种塑料薄膜的张口剂;农药颗粒剂、分散剂;粘合剂材料和轻质材料制品以及牙膏磨料等,并可用于中高档原子灰系列产品。

技术指标:

项      目

指     标

二氧化硅含量% ≥

99

白度

95

筛余物(45um)%≤

0.5

加热减量%

4.0-8.0

灼烧减量(1000℃)% ≤

5.0

PH值(10%水悬浮液)

5.0-8.0

视比重(1000转/分.20分钟)(g/mL) ≤

0.24

比表面积(m2/g)

125-210(400目的为125;800目的为175;1250目的为185;6000目的为210)

表面改性处理

根据客户的需要

 

上海思峻研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将SGN/思峻胶体磨进行进一步的改良,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。

GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

GMD2000有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

研磨分散机的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

(价格电议:葛   公司有样机可供客户实验!)

GMD2000系列研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%。

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