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氧化锆陶瓷胶体磨

简要描述:

氧化锆陶瓷胶体磨是SGN工程师针对对金属污染要求特别高的行业,以及精细化工或者医药行业设计生产的。GMG2000系列陶瓷胶体磨能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。高速陶瓷胶体磨的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。

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氧化锆陶瓷胶体磨

氧化锆陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。
氧化锆陶瓷胶体磨使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,陶瓷胶体磨特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高品质产品。


应用领域:
电子电池:锂电池正极浆料、锂电池负极浆料、电路板基材浆料
纳米材料:超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散
精细化工:热熔胶、密封胶、胶水、絮凝剂、表面活性剂
生物医药:药膏、软膏、霜剂、注射剂、微胶囊乳剂、填充剂分散


流量输出线速度功率入口/输出连接
类型l/hrpmm/skW
GMG2000/4509,000232.2DN25/DN15
GMG2000/52006,000237.5DN40/DN32
GMG2000/105004,2002322DN50/DN50
GMG2000/2015002,8502337DN80/DN65
GMG2000/3030001,4202355DN150/DN125
GMG2000/5060001,10023110DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%。

1表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

产品相关关键字: 胶体磨

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