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  • GMO2000/04分体式高剪切氧化锆陶瓷胶体磨
    GMO2000/04分体式高剪切氧化锆陶瓷胶体磨

    GMO2000/04分体式高剪切氧化锆陶瓷胶体碳纤维电容浆料Z高转速可以达到14000RPM。中德合作研发项目,磨头配合精密度高,相对于国产胶体磨此款胶体磨比普通的胶体磨的运转速度达到4-5倍以上,定转子配合间隙在0.2-0.3mm之间,分散乳化均质研磨效果非常好。

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  • GM2000/04实验室高剪切胶体磨
    GM2000/04实验室高剪切胶体磨

    GM2000/04实验室高剪切胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过实验室胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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  • GM2000/04高剪切胶体磨
    GM2000/04高剪切胶体磨

    高剪切胶体磨,高剪切锥体磨,管线式胶体磨,微晶纤维素胶体磨,硬脂酸钙胶体磨,环氧树脂涂料高剪切胶体磨,纳米金高剪切胶体磨,纳米银高剪切胶体磨,进口胶体磨,德国胶体磨,上海胶体磨,胶体磨价格 GM2000/04高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的水平。

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  • GM2000/4管线式内外墙涂料胶体磨
    管线式内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列管线式内外墙涂料胶体磨的特点: ①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。 ②齿列的深度:从开始的2.7mm到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。 ③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

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  • GM2000/4纳米三级内外墙涂料胶体磨
    纳米三级内外墙涂料胶体磨

    GM2000系列纳米三级内外墙涂料胶体磨的特点: ①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。 ②齿列的深度:从开始的2.7mm到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。 ③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

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  • GM2000/4三级纳米湿法胶体磨
    三级纳米湿法胶体磨

    SGN三级纳米湿法胶体磨的特点 ①线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 ②定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 ③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离 ④在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 ⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GM2000/4湿法超细胶体磨
    湿法超细胶体磨

    SGN湿法超细胶体磨的特点 ①线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 ②定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 ③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离 ④在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 ⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GM2000/4高速化工级胶体磨
    高速化工级胶体磨

    高速化工级胶体磨化工胶体磨,化工乳化设备,,化工行业许多领域都会用到乳化设备对物料进行均质胶体磨,如:石蜡胶体磨、硅油乳化,柴油乳化等,为获得高品质的化工乳液,就必须选择效果好的乳化设备。

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