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三级高剪切分散机在青薃素混悬注射液中的应用
点击次数:992 发布时间:2016-10-17

 三级高剪切分散机在青薃素混悬注射液中的应用

 

青薃素的简介

青薃素,化学式G15H22O5,分子量282.33,无色针状晶体,味苦。 在丙酮、醋酸乙酯、氯仿、苯及冰醋酸中易溶,在乙醇和甲醇、乙迷及石油醚中可溶解,在水中几乎不溶。 熔点156-157℃。青薃素,化学式G15H22O5,分子量282.33,无色针状晶体,味苦。 在丙酮、醋酸乙酯、氯仿、苯及冰醋酸中易溶,在乙醇和甲醇、乙迷及石油醚中可溶解,在水中几乎不溶。 熔点156-157℃青薃素类药物为主的联合疗法已经成为世界卫生组织推荐的抗疟疾标准疗法也是抵抗疟疾耐药性效果的药物,中国作为抗疟药物青薃素的发现方及zui大生产方,在全球抗击疟疾进程中发挥了重要作用。

    

青薃素悬浮注射液三级高剪切分散机,青薃素悬浮注射液分散机,青薃素悬浮注射液研磨分散机,青薃素悬浮注射液超高速分散机SGN超高速分散机是比普通的分散机的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好,zui高转速可以达到14000RPM。

 青薃素悬浮注射液三级高剪切分散机纳米粉体也叫纳米颗粒,一般指尺寸在1-100nm之间的超细粒子。纳米粉体具有的体积效应、表面效应、量子尺寸效应、介电限域效应等各种效应,使得它表现出强吸光能力、高活性、高催化性、高选择性、高扩散性、高磁化率和矫顽力等特殊理化性能[1];使它具备独特的力学、光、热、电、磁、吸附、气敏等性质[2]。在传统材料中加入纳米粉体将大大改善其性能或带来意想不到的性质。目前已用于纳米固体的压制、纳米涂层、环境保护以及纳米粒子光催化上。纳米材料科学及工业应用已成为国内外跨新世纪研究开发热点,并开拓发展成为高技术产业,在电子、化工、机械、生物医学等工业领域内,具有日益广泛发展的应用前景。


随着纳米科技的发展,制备纳米粉体的方法越来越多。在制备纳米粉体过程中,存在的zui大问题就是纳米颗粒的团聚,这也是当今纳米技术领域内的一个普遍关心、亟待解决的一个难题。控制纳米颗粒团聚已成为制备纳米颗粒的一项关键技术,所以很有必要对纳米颗粒团聚现象进行深入研究。

所谓纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小,表面原子比例大,比表面积大,表面能大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒,乃至三次颗粒,使粒子粒径变大,在每个颗粒内部有细小孔隙。

                    
纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。对于软团聚机理,人们的看法比较一致,即,软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致,由于作用力较弱,可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。 


高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基础上又开发出GRS2000超高速分散机。其剪切速率可以超过100.00 rpm,转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强粒经分布更窄。由于能量密度极高,无需其他辅助分散设备。

   
超高速分散机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基础上又开发出GRX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。由于能量密度极高,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

   
青薃素悬浮注射液三级高剪切分散机超高速分散机是、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时,甚至纳米级时,体系可被认为均质。当外部能量输入时,两种物料重组成为均一相。三级高剪切均质机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。三级高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频管线式三级高剪切分散均质乳化机的循环往复,zui终得到稳定的高品质产品。

  

 

 

 

 

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