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我司为山西某客户湿磨白炭黑纳米研磨分散获得成功
点击次数:1460 更新时间:2016-11-14

11-11山西某客户来访我司,并使用我司新研制的GMD2000/04设备进行原始粒径为微米级的白炭黑的研磨分散实验,zui终研磨后的浆料粒径平均值小于360nm,*符合客户的使用要求,大获成功!

GMD2000改性白炭黑管线式高剪切研磨分散机是一种超细微具有活性的二氧化硅粒 子, 化学名称为水合无定形二氧化硅或胶体二氧化 硅, 是一种重要的精细无机化工产品. 根据制备方 法的不同, 白炭黑分为气相法白炭黑和沉淀法白炭 黑. 气相法白炭黑主要采用四氯化硅在氢氧火焰中 高温水解而制备, 沉淀法白炭黑主要采用硅酸钠与 无机酸中和沉淀反应而制备。

   GMD2000改性白炭黑管线式高剪切研磨分散机具有特殊的表面结构( 带有表面羟基和 吸附水) 、 特殊的颗粒形态( 粒子小, 比表面积大等) 和*的物理化学性能, 广泛应用于橡胶、 塑料、 涂 料、 医药、 日用化工诸多领域. 然而, 由于白炭黑内部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈亲水性, 在有机 相中难以湿润和分散, 而且, 由于其表面存在羟基, 表面能较大, 聚集体总倾向于凝聚。

     SGN改性白炭黑胶体磨,是SGN公司研发出来的新品,是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。白炭黑既可以有效分散,又可以防止团聚。

 

根据检测,SGN的胶体磨可以将白炭黑磨到397nm,图片中有粒径检测报告,远远超出了客户的理想效果!

(价格电议,钱,:,3442036080

 

  GMD2000改性白炭黑管线式高剪切研磨分散机在设计上的突出优点在于:

1、转速zui高可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:

2、磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大,效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、GMD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。

     改性白炭黑胶体磨是由胶体磨、乳化分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

     第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。

 

  GMD2000改性白炭黑管线式高剪切研磨分散机

胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接
类型l/hrpmm/skW 
GMD 2000/47009,000232.2DN25/DN15
GMD 2000/53,0006,000237.5DN40/DN32
GMD2000/108,0004,2002322DN50/DN50
GMD2000/2020,0002,8502337DN80/DN65
GMD2000/3040,0001,4202355DN150/DN125
GMD2000/5080,0001,10023110DN200/DN150

GMD2000改性白炭黑管线式高剪切研磨分散机信息来源:www.sgnprocess。。com

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