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  • GMD2000/4钛酸锂高速剪切研磨分散机
    钛酸锂高速剪切研磨分散机

    上海思峻GMD2000系列钛酸锂高速剪切研磨分散机,可以很好的解决这两个问题。GMD2000系列的胶体磨(锥体磨)+分散头的组合,可以先将钛酸锂混合物(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为石墨烯行业提供了强有力的设备力量。

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  • GMD2000/4纳米研磨机分散机
    纳米研磨机分散机

    GMD2000系列SGN纳米研磨机分散机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。

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  • GMSD2000水性树脂研磨分散机
    水性树脂研磨分散机

    水性树脂研磨分散机的分散效果 影响分散乳化结果的因素有以下几点: 1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好) 2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好) 3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好) 4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好) 5 循环次数(越多,效果越好)

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  • GMSD2000铝粉漆铝粉涂料研磨分散机
    铝粉漆铝粉涂料研磨分散机

    铝粉漆铝粉涂料研磨分散机GMSD2000系列特别适合于胶体溶液,超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,GMSD2000在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。GMSD2000整机采用几何机构的研磨定转子,更好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求

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  • GMD2000/4臭豆腐高剪切研磨分散机
    臭豆腐高剪切研磨分散机

    臭豆腐高剪切研磨分散机具备以下特点: 1)线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力非常强烈,通常所说的超细湿磨 2)定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 3)定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离 4)在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。 5)高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GMD2000/4无机材料纳米级湿法研磨设备
    无机材料纳米级湿法研磨设备

    无机材料纳米级湿法研磨设备的特点 1更稳定 采用优化设计理念,将的技术与创新的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证. 2 新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.

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  • GR2000/4磷酸铝凝胶均质乳化机
    磷酸铝凝胶均质乳化机

    GR2000系磷酸铝凝胶均质乳化机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改进。(我们提供了2P,2G,4M,6F,8F等五种乳化头供客户选择)

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  • GMD2000SGN液体硅橡胶分散机
    SGN液体硅橡胶分散机

    SGN液体硅橡胶分散机,液体硅橡胶,含有20%气相二氧化硅,高温下和有水存在是会接皮。如何让气相二氧化硅均匀的分散到体系当中,是一个比较大的难点。因为液体硅橡胶本身粘度高,难以流动,再加上气相二氧化硅本身达纳米级粒径,容易团聚难以分散。

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