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  • GMSD2000聚氨酯原位聚合的水性导电涂料研磨分散机
    聚氨酯原位聚合的水性导电涂料研磨分散机

    GMD2000聚氨酯原位聚合的水性导电涂料研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢。

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  • GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格
    硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格

    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • 硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机
    硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机

    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GMD2000/4三级纳米碳酸钙研磨机
    三级纳米碳酸钙研磨机

    三级纳米碳酸钙研磨机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

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  • GMD2000/4三级纳米碳酸钙分散机
    三级纳米碳酸钙分散机

    三级纳米碳酸钙分散机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

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  • GMD2000/4纳米研磨机分散机
    纳米研磨机分散机

    GMD2000系列SGN纳米研磨机分散机是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。

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  • GMSD2000/4氧化锆浆料超高速剪切分散机
    氧化锆浆料超高速剪切分散机

    氧化锆浆料超高速剪切分散机的定转子间隙一般为0.2-0.3mm,而普通乳化机一般为0.5-0.7mm,SGN定转子更加精密,对于物料的细化效果更好。另外,SGN乳化机配置三组定转子,物料通过工作腔体,相当于被剪切处理了3遍,乳化分散均质更*。

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  • GMSD2000/4德国氧化锆浆料高剪切分散机
    德国氧化锆浆料高剪切分散机

    德国氧化锆浆料高剪切分散机的定转子间隙一般为0.2-0.3mm,而普通乳化机一般为0.5-0.7mm,SGN定转子更加精密,对于物料的细化效果更好。另外,SGN乳化机配置三组定转子,物料通过工作腔体,相当于被剪切处理了3遍,乳化分散均质更*。

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