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  • GM2000微纳米级头孢混悬液胶体磨
    微纳米级头孢混悬液胶体磨

    微纳米级头孢混悬液胶体磨为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

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  • GMD2000超微矿物混悬液研磨分散机
    超微矿物混悬液研磨分散机

    超微矿物混悬液研磨分散机不断地从径向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改变流向,与此同时在转子区产生的上、下轴向抽吸力的作用下,又形成上、下两股强烈的翻动紊流。物料经过数次循环,完成分散过程。

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  • GMD2000羟丙甲基纤维素溶液分散均质机
    羟丙甲基纤维素溶液分散均质机

    羟丙甲基纤维素溶液分散均质机用氢氧化钠处理纤维素得碱纤维素,然后再精制得成品,即是羟甲基纤维素钠、溶解性在热水和冷水中均好。水溶液有粘性。粘度和溶解度与取代程度有关。

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  • GMD2000超细头孢混悬液高速研磨分散机
    超细头孢混悬液高速研磨分散机

    GMD2000超细头孢混悬液高速研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

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  • GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格
    硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格

    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机价格系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GM2000/4人参磨浆机,人参医药混悬液胶体磨价格
    人参磨浆机,人参医药混悬液胶体磨价格

    人参磨浆机,人参医药混悬液胶体磨价格在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。GM2000胶磨机整机采用几何机构的研磨定转子,的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。

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  • 硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机
    硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机

    GMD2000硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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  • GMD2000/4高剪切高速吡喹酮混悬液研磨分散机
    高剪切高速吡喹酮混悬液研磨分散机

    GMD2000系列高剪切高速吡喹酮混悬液研磨分散机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径微米级0.2-2μm,可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。混悬液分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

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