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  • GMD2000二氧化钛超高速研磨分散机
    二氧化钛超高速研磨分散机

    二氧化钛超高速研磨分散机定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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  • GMD2000无机彩色颜料研磨分散机
    无机彩色颜料研磨分散机

    无机彩色颜料研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000氟橡胶氧化镁研磨分散机
    氟橡胶氧化镁研磨分散机

    氟橡胶氧化镁研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000植物精油高剪切研磨分散机
    植物精油高剪切研磨分散机

    植物精油高剪切研磨分散机不断地从径向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改变流向,与此同时在转子区产生的上、下轴向抽吸力的作用下,又形成上、下两股强烈的翻动紊流。物料经过数次循环,完成分散过程。

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  • GMD2000/4浓香芝麻油高剪切研磨分散机
    浓香芝麻油高剪切研磨分散机

    浓香芝麻油高剪切研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000天然植物色素研磨分散机
    天然植物色素研磨分散机

    天然植物色素研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

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  • GMD2000/4纳米氢氧化镁研磨分散机
    纳米氢氧化镁研磨分散机

    纳米氢氧化镁研磨分散机,SGN纳米氢氧化镁研磨式分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。

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  • GMD2000食品研磨分散机
    食品研磨分散机

    食品研磨分散机该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

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